本次探索之行最重要的環節，就是參觀索尼位于熊本的半導體工廠。今天我領略了號稱影像行業半壁江山的索尼熊本的半導體工廠，看到了他壯觀與雄偉的CMOS和A9取景器的制作流程，為我的日本之行增添了濃墨重彩的一筆。

因為保密的原因，本次參觀沒有拍攝照片的機會。不過好在索尼為我們提供了一套可以供媒體發表的CMOS生產制作流程圖片以及索尼電子取景器的制作流程圖，可以與大家分享。

生產一塊CMOS主要分為前工序與后工序。在前工序中，一塊大的圓柱形高純度單晶硅體，先被切割成直徑30cm的硅晶圓盤。之后進入“洗凈工序”：用純凈水去除硅圓盤上的金屬、有機物等殘留物。隨后會進行“電路印刷工序”。這時候在硅晶片上就會形成拜耳涂層以及電路圖案。前工序結束之后，會有機器人將25片為一組的硅晶片盤盒送至后工序車間，在這里對CMOS進行測試，并切割成我們常見的一片片結構。在“切割工序”完成后，會有機器人進行“連接工序”，將IC芯片的電極和引線與硅片本體連接。到這里CMOS的制作工序就基本結束了，因為保密的原因不能介紹的太過詳細，而索尼所生產的不同種類的CMOS在制作過程中也有細節區別，在這里不一一說明。

而除了CMOS的生產過程，索尼A9的EVF取景器也在這里生產，所以我再為大家簡單介紹一下EVF取景器芯片的制作過程。

制作EVF芯片的前工序與制作CMOS的基本相同，主要區別在于后工序。在后工序中首先對芯片進行堆棧前的清洗，之后會進行涂膜工藝，和引線安裝工序，將LED芯片與導線連接。連接完成后的部件要進行測試，即老化工序，連續使用實驗。至此取景器LED屏幕的制作步驟就基本結束了。

短暫的參觀，大大的收獲。這次探索之旅對我來說無疑是一次學習和成長的機會。