光谷企業近日成功研發出全國首款完全自主可控的OPC軟件。OPC軟件，即“光學鄰近校正軟件”，是芯片設計工具EDA的一種，沒有它，即使用了光刻機，也造不出芯片。

記者尚大原：“所謂光刻，就是把這個黑色版圖上的電路圖形通過光學成像的方式呈現在這塊紅色的硅片上，就像是照相機照相片，但是隨著芯片關鍵尺寸從90nm到32nm不斷降低，相片上的圖形會不可避免地出現失真，而OPC軟件就是避免這種失真。”

在180納米以下芯片的光刻前，都必須采用OPC軟件進行優化。目前，這一軟件市場由三家美國公司壟斷。

華中科技大學教授、宇微光學軟件有限公司創始人劉世元：“可以這么講，沒有OPC的話，即使有最好的光刻機也發揮不了作用，我們自主可控，最核心的就是（掌握）物理算法。”

此次研發出OPC軟件的光谷企業宇微光學，創始人劉世元來自華中科技大學，師從楊叔子院士。專注集成電路計算光刻的基礎研究20余年。

華中科技大學教授、宇微光學軟件有限公司創始人劉世元：“20年前參加國家的重大專項，100納米分辨率光刻機的研制，回到學校以后就一直在從事計算光刻這方面的研究工作，堅持做基礎的研究，做關鍵技術的攻關。”

十多年來，劉世元團隊堅持最底層的代碼一行行敲、最基礎的公式一個個算，終于打造出自主可控的OPC軟件算法。目前，企業正在做集成與測試，并到芯片生產廠商進行驗證，孵化企業的武漢光電工研院也將提供技術轉化服務。

武漢光電工業技術研究院有限公司總經理韓道：“搭建一個產業生態，讓我們更多解決了卡脖子的、擁有核心技術的工具，能夠被客戶所接受，并且穩定地升級，穩定地使用。”